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(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 20221079612 9.2 (22)申请日 2022.07.07 (71)申请人 中交水运 规划设计院有限公司 地址 100007 北京市东城区国子监 街28号 (72)发明人 苏东升 崔峰 高鑫 杨国平 商剑平 李薇 高源 段一峰 肖鑫 刘亚明 (74)专利代理 机构 北京康信知识产权代理有限 责任公司 1 1240 专利代理师 周春枚 (51)Int.Cl. G06T 11/20(2006.01) G06T 7/70(2017.01) G06V 10/26(2022.01) G06V 10/74(2022.01) (54)发明名称 地质剖面图的生成方法及装置、 电子设备 (57)摘要 本发明公开了一种地质剖面图的生成方法 及装置、 电子设备。 其中, 该方法包括: 获取预先 选取的钻孔对中第一钻孔和第二钻孔的地层分 布信息, 并按照钻孔地层位置, 生成两个候选参 考钻孔, 其中, 地层分布信息至少包括: 钻孔地层 位置顺序; 从两个候选参考钻孔中选取参考钻 孔; 将参考钻孔与预先选取的钻孔对进行对比, 并基于对比结果将空缺地层插入到预先选取的 钻孔对中, 得到新钻孔对; 将新钻孔对中的两个 钻孔按照相同地层策略进行线性连接, 生成新钻 孔对之间的地质剖面线; 将一个或多个钻孔对 连 接的地质剖面线依次展开, 形成地质剖面图。 本 发明解决了相关技术中使用的地质剖面图自动 生成算法, 容 易出现地层线交叉的技 术问题。 权利要求书2页 说明书15页 附图7页 CN 115131461 A 2022.09.30 CN 115131461 A 1.一种地质剖面图的生成方法, 其特 征在于, 包括: 获取预先选取的钻孔对中第一钻孔和第二钻孔的地层分布信息, 并按照钻孔地层位 置, 生成两个候选参 考钻孔, 其中, 所述 地层分布信息 至少包括: 所述钻孔 地层位置顺序; 从所述两个候选参 考钻孔中选取参 考钻孔; 将所述参考钻孔与 所述预先选取的钻孔对进行对比, 并基于对比结果将空缺地层插入 到预先选取的钻孔对中, 得到新钻孔对; 将所述新钻孔对中的两个钻孔按照相同地层策略进行线性连接, 生成所述新钻孔对之 间的地质剖面线; 将一个或多个钻孔对连接的地质剖面线依次展开, 形成地质剖面图。 2.根据权利要求1所述的生成方法, 其特征在于, 按照钻孔地层位置, 生成两个候选参 考钻孔的步骤, 包括: 按照所述第一钻孔和所述第二钻孔的所述钻孔地层位置, 依次预设交叉合并策略, 生 成所述两个候选参考钻孔, 其中, 所述预设交叉合并策略包括: 根据钻孔的优先级别, 确定 放置钻孔的地层位置的顺序。 3.根据权利要求1所述的生成方法, 其特征在于, 从所述两个候选参考钻孔中选取参考 钻孔的步骤, 包括: 比较所述两个候选参 考钻孔各自包 含的地层数目, 得到比较结果; 在所述比较结果指示所述两个候选参考钻孔包含的的地层数目不相同的情况下, 选择 地层数目最小的候选参 考钻孔作为所述 参考钻孔; 在所述比较结果指示所述两个候选参考钻孔包含的的地层数目相同的情况下, 从顶部 地层开始比较地层位置的顺序, 并将相同地层位置的顺序中靠前的候选参考钻孔作为所述 参考钻孔。 4.根据权利要求3所述的生成方法, 其特征在于, 在比较所述两个候选参考钻孔各自包 含的地层数目, 得到比较结果之前, 还 包括: 分析两个所述 候选参考钻孔中是否存在相邻的相同地层; 若存在相邻的相同地层, 则将相邻的相同地层进行合并简化处 理。 5.根据权利要求1所述的生成方法, 其特征在于, 基于对比结果将空缺地层插入到预先 选取的钻孔对中, 得到新钻孔对的步骤, 包括: 基于所述对比结果, 分析所述第 一钻孔和所述第 二钻孔的地层分布相对于所述参考钻 孔是否存在所述空缺 地层; 若存在所述空缺地层, 确定出现所述空缺地层所属的原有钻孔, 其中, 所述原有钻孔为 所述第一钻孔或所述第二钻孔; 将所述空缺地层视作高度为预设参数数值的地层插入到所述原有钻孔中, 形成所述新 钻孔对。 6.根据权利要求5所述的生成方法, 其特征在于, 在将所述新钻孔对按照相同地层策略 进行线性连接, 生成所述 新钻孔对之间的地质剖面线之后, 还 包括: 将视作高度为预设参数 数值的所述空缺 地层记录为 零层; 将线性连接过程中与 所述零层相连的剖面点记录为可移动 点, 将其余的剖面点记录为 不可移动点, 其中, 所述剖面 点为所述地质剖面线上的点;权 利 要 求 书 1/2 页 2 CN 115131461 A 2若所述可移动点在所述新钻孔对之间移动 时, 移动至其它地质剖面线上, 且未在所述 其它地质剖面线的两侧端点处, 通过所述可移动点将所在的地质剖面线分割为两条剖面 线。 7.根据权利要求1所述的生成方法, 其特征在于, 将一个或多个钻孔对连接的地质 剖面 线依次展开, 形成地质剖面图的步骤, 包括: 按照钻孔集合中各个钻孔对的顺序, 依次进行地质剖面线连接, 将一个或多个钻孔对 连接的地质剖面线依次展开, 形成地质剖面图, 其中, 在所述地质剖面图中包括下述至少之 一: 分地层的钻孔柱状图、 地质剖面线、 高程尺、 钻孔间距表和剖面图标识, 所述钻孔柱状图 包括下述至少之一: 地层填充图案、 地层编号、 每层地层的高度与高程, 所述地质剖面线包 括: 地层多边形 所代表的地层名称。 8.根据权利要求7 所述的生成方法, 其特 征在于, 在形成地质剖面图之后, 还 包括: 采用预设调整策略对地质剖面图进行调整; 采用预设拓扑多边形自动构建算法, 对调整后的地质剖面图中的地质剖面线、 钻孔线 和地层线组合进行地层多边形构建, 得到剖面图构建结果; 对构建的剖面图构建结果中的地层信息进行 校验。 9.一种地质剖面图的生成装置, 其特 征在于, 包括: 获取单元, 用于获取预先选取的钻孔对中第一钻孔和第二钻孔的地层分布信息, 并按 照钻孔地层位置, 生成两个候选参考钻孔, 其中, 所述地层分布信息至少包括: 所述钻孔地 层位置顺序; 选取单元, 用于从所述两个候选参 考钻孔中选取参 考钻孔; 对比单元, 用于将所述参考钻孔与所述预先选取的钻孔对进行对比, 并基于对比结果 将空缺地层插入到预先选取的钻孔对中, 得到新钻孔对; 第一生成单元, 用于将所述新钻孔对中的两个钻孔按照相同地层策略进行线性连接, 生成所述 新钻孔对之间的地质剖面线; 第二生成单元, 用于将一个或多个钻孔对连接的地质剖面线依次展开, 形成地质剖面 图。 10.一种电子设备, 其特 征在于, 包括: 处理器; 以及 存储器, 用于存 储所述处 理器的可 执行指令; 其中, 所述处理器配置为经由执行所述可执行指令来执行权利要求1至8中任意一项所 述的地质剖面图的生成方法。权 利 要 求 书 2/2 页 3 CN 115131461 A 3
专利 地质剖面图的生成方法及装置、电子设备
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