(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202221906963.4 (22)申请日 2022.07.24 (73)专利权人 南通富电半导体材 料科技有限公 司 地址 226500 江苏省南 通市如皋市城南 街 道海阳南路2 号电子信息产业园3号楼 2楼 专利权人 如皋市化 合物半导体产业研究所 (72)发明人 何建军　沈桂英　赵有文　 (74)专利代理 机构 北京和信华成知识产权代理 事务所(普通 合伙) 11390 专利代理师 李莹 (51)Int.Cl. B24B 29/02(2006.01) B24B 41/00(2006.01)B24B 41/02(2006.01) B24B 47/04(2006.01) B24B 47/12(2006.01) B24B 47/22(2006.01) B24B 55/06(2006.01) B01D 46/10(2006.01) (54)实用新型名称 一种硅片生产用抛光装置 (57)摘要 本实用新型涉及一种抛光装置， 尤其涉及一 种硅片生产用抛光装置。 本实用新型提供一种能 够将抛光好的硅片顶起的硅片生产用抛光装置。 一种硅片生产用抛光装置， 包括有支撑框、 工作 台、 电动滑轨、 电动滑块、 电机和抛光盘等， 支撑 框顶部连接有用于放置硅片的工作台， 工作台上 均匀地开有七个凹槽， 七个凹槽呈环形分布， 支 撑框两侧均安装有电动滑轨， 两个电动滑轨上均 滑动式地安装有电动滑块， 两个电动滑块之间安 装有用于提供动力的电机， 电机的输出轴连接有 用于给硅片的表面抛光的抛光盘。 本实用新型通 过顶起机构能快速将抛光好的硅片顶出， 方便人 们将硅片取 出， 从而给人们的操作带来便利。 权利要求书1页 说明书3页 附图5页 CN 218017779 U 2022.12.13 CN 218017779 U 1.一种硅片生产用抛光装置， 其特征是， 包括有支撑框 （1） 、 工作 台 （2） 、 电动滑轨 （4） 、 电动滑块 （5） 、 电机 （6） 、 抛光盘 （7） 、 气泵 （8） 、 连接框 （9） 、 过滤器 （12） 和顶起机构 （13） ， 支撑 框 （1） 顶部连接有用于放置硅片的工作台 （2） ， 工作台 （2） 上均匀地开有七个凹槽 （3） ， 七个 凹槽 （3） 呈环形分布， 支撑框 （1） 两侧均安装有电动滑轨 （4） ， 两个电动滑轨 （4） 上均滑动式 地安装有电动滑块 （5） ， 两个电动滑块 （5） 之间安装有用于提供动力的电机 （6） ， 电机 （6） 的 输出轴连接有用于给硅片的表 面抛光的抛光盘 （7） ， 抛光盘 （7） 位于工作台 （2） 上方， 支撑框 （1） 一侧安装有用于抽气的气泵 （8） ， 气泵 （8） 的进气口安装有用于将尘屑过滤的过滤器 （12） ， 过滤器 （12） 顶部连接有连接框 （9） ， 支撑框 （1） 上设有用于将抛光好的硅片顶起的顶 起机构 （13） 。 2.按照权利要求1所述的一种硅片生产用抛光装置， 其特征是， 顶起机构 （13） 包括有导 向杆 （131） 、 压缩弹簧 （132） 和升降架 （133） ， 支撑框 （1） 上部两侧连接有导向杆 （131） ， 且两 个导向杆 （131） 之间滑动式地连接有用于将抛光好的硅片顶起的升降架 （133）， 升降架 （133） 滑动式地与支撑框 （1） 连接， 且升降架 （133） 穿过凹槽 （3） ， 升降架 （133） 底部与两个导 向杆 （131） 之间均连接有压缩弹簧 （132） 。 3.按照权利要求2所述的一种硅片生产用抛光装置， 其特征是， 还包括有壳体 （11） ， 抛 光盘 （7） 外侧卡接有壳体 （1 1） 。 4.按照权利要求3所述的一种硅片生产用抛光装置， 其特征是， 还包括有网格 （10） ， 连 接框 （9） 一侧连接有用于防止较大物体进入连接 框 （9） 内的网格 （10） 。 5.按照权利要求4所述的一种硅片生产用抛光装置， 其特征是， 还包括有海绵垫 （14） ， 升降架 （13 3） 顶部贴有海绵垫 （14） 。 6.按照权利要求1所述的一种硅片生产用抛光装置， 其特征是， 气泵 （8） 表面涂有防锈 漆。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 218017779 U 2一种硅片生产用抛光装 置 技术领域 [0001]本实用新型 涉及一种抛光装置， 尤其涉及一种硅片生产用抛光装置 。 背景技术 [0002]硅片一般是单晶硅 的切片， 硅片是制作集成电路的重要材料， 通过对硅片进行光 刻和离子注入等手段， 可以制成各种半导体器件， 硅片在经过多线切割、 研磨等加工过程 中， 其表面会形成损伤层， 从而使得表面有一定的粗糙度， 为了让硅片更光滑， 需要用到抛 光装置对硅片的表面进行 抛光。 [0003]目前公布了公开号为CN207120063U， 申请号为CN201721072115.7的一种硅片用新 型抛光装置， 包括抛光装置壳体、 三相驱动电机、 超声波发生器和液体流出管， 所述抛光装 置壳体上方安装有保护轴承， 所述保护轴承上方安装有传动轴， 所述传动轴 上方安装有所 述三相驱动电机， 所述三相驱动电机上方设置有抛光清洗槽， 所述抛光磨片内部安装有超 声波发射探头， 所述超声波发射探头下方安装有硅片放置槽， 所述硅片放置槽下方连通有 减震弹簧， 所述抛光装置壳体外侧 安装有所述液体流出管， 所述抛光装置壳体顶部安装有 外部电源插口。 有益效果在于： 能够在 对硅片抛光的同时对其表面进 行超声波清洗， 能够有 效防止在抛光时掉落的小颗粒粘附在抛光磨片上， 对硅片造成划痕。 虽然上述专利能够有 效防止在抛光时掉落的小颗粒粘附在抛光磨片上， 对硅片造成划痕， 但是上述专利存在以 下问题： [0004]上述专利在对硅片抛光好后， 需要人手去将硅片从硅片放置槽扣出， 如此不便于 将硅片拿取。 [0005]针对上述在对硅片抛光好后， 需要人手去将硅片从硅片放置槽扣出， 如此不便于 将硅片拿取 的问题， 我们需设计一种能够将抛光好的硅片顶起的硅片生产用抛光装置， 以 解决上述背景技 术提出的问题。 实用新型内容 [0006]本实用新型的目的是提供一种硅片生产用抛光装置， 具有能够将抛光好的硅片顶 起的优点， 解决了不便 于将硅片拿取的问题。 [0007]本实用新型的目的是这样实现的： 一种硅片 生产用抛光装置， 包括有支撑框、 工作 台、 电动滑轨、 电动滑块、 电机、 抛光盘、 气泵、 连接框、 过滤器和顶起机构， 支撑框顶部连接 有用于放置硅片的工作台， 工作台上均匀地开有七个凹槽， 七个凹槽呈环形分布， 支撑框两 侧均安装有电动滑轨， 两个电动滑轨上均滑动式地安装有电动滑块， 两个电动滑块之间安 装有用于提供动力的电机， 电机的输出轴 连接有用于给硅片的表面抛光的抛光盘， 抛光盘 位于工作台上方， 支撑框一侧 安装有用于抽气的气泵， 气泵的进气口安装有用于将尘屑过 滤的过滤器， 过滤器顶部连接有连接框， 支撑框上设有用于将抛光好的硅片顶起的顶起机 构。 [0008]在本实用新型一个较佳实施例中， 顶起机构包括有导向杆、 压缩弹簧和升降架， 支说　明　书 1/3 页 3 CN 218017779 U 3